リモートプラズマソースの世界市場動向：2030年には14億7,283万ドルの規模に達すると予測

2023年11月29日 team リモートプラズマソース

Stratistics MRCによると、リモートプラズマソースの世界市場は2023年に3億6,195万ドルを占め、2030年には14億7,283万ドルに達すると予測されている。炭化水素系汚染物質は、従来のガスパージ技術では除去が極めて困難であるため、リモートプラズマソースが真空チャンバ内に設置される。半導体プロセスにおけるフォトレジストのドライ除去を含むアプリケーションでは、リモートプラズマ源が一般的に使用される。さらに、表面を分子レベルでクリーンにするために、不純物の最終層を除去するためにも使用できる。

NASAスペースプレイスによると、太陽のコアの水素は、高温プラズマの泡で保持され、太陽表面に熱を輸送する。

半導体産業は、家電製品、自動車技術、モノのインターネット（IoT）の進歩に後押しされたエレクトロニクス需要の高まりに支えられている。さらに、チップ設計が複雑化し、より微細なエッチングや成膜プロセスが求められるようになるにつれて、RPS技術の需要が高まっている。また、半導体製造の先端ノードへの移行は、精密なプラズマ処理に大きく依存するため、RPSシステムの普及が進んでいる。

リモート・プラズマ・ソース（RPS）システムを導入するための高額な初期コストには、設備投資コスト、設置コスト、トレーニングとスキル開発、継続的なメンテナンスとサポート契約、安全性とコンプライアンス対策、運用規模、ROIの考慮、資金調達の難しさ、予算の制約、資産管理の問題などが含まれる。さらに、新興企業や中小企業にとって特に困難なこれらの財政的負担は、RPS技術の導入が長期的な事業目標に沿ったものであり、前向きな投資対効果をもたらすことを保証するために、慎重な計画、資金調達オプションの調査、政府のインセンティブ探し、広範な費用便益分析を必要とする。

RPS技術は、5G通信、電気自動車（EV）の生産、再生可能エネルギーなどの発展産業において、大きな可能性を秘めている。これらの産業は、コンポーネントの製造と改良のために精密なプラズマプロセスを必要とし、RPSメーカーにエキサイティングな新しい市場機会を提供する。さらに、RPS技術の精度と適応性は、これらの産業が拡大し続ける中で、RPS技術をこれらの産業の発展を可能にする重要な要素として位置付けている。

RPS市場では、プラズマ技術の急速な進歩が既存のシステムを急速に陳腐化させる可能性があり、技術の陳腐化は深刻な脅威である。企業が生き残るためには、RPSソリューションを市場の最先端で競争力を維持するための研究開発に継続的に投資する必要がある。さらに、技術的陳腐化への対処を怠ると、競争上の優位性を失い、市場での関連性が低下し、収益が減少する可能性がある。

COVID-19の大流行はRPS市場に大きな影響を与え、サプライチェーンを混乱させ、設置を遅らせ、影響を受けた業界に設備投資を削減させ、市場の成長を一時的に鈍化させた。さらに、企業は遠隔保守を実施し、医療機器の製造のようなパンデミックに関連する分野のアプリケーションを調査することで適応した。遠隔で業務を管理するため、企業はデジタル化への取り組みを強化し、パンデミックは俊敏なサプライチェーン戦略の価値を浮き彫りにした。

予測期間中、誘導結合プラズマ（ICP）が最大の市場シェアを占めると予想される。ICPシステムは、高密度で安定したプラズマを生成し、精密で制御されたプロセスを実現できるため、半導体製造、環境分析、元素分析など、さまざまな産業で広く利用されている。さらに、ICP技術の適応性の高さは、材料の表面処理から分析分光学まで幅広い用途への最有力選択肢となっており、市場での優位性を大いに高めている。

市場のCAGRが最も高いと予想されるのはヘルスケア産業である。最先端の医薬品、診断薬、医療機器の需要は、すべて精密で制御されたプラズマプロセスに依存しており、これがこの成長の原動力となっている。滅菌、医療機器の表面改質、薬物送達システム、新規治療法の創出はすべてRPS技術に大きく依存している。さらに、RPS市場におけるこの産業セグメントの継続的な拡大と隆盛は、医療分野における進歩の追求と、よりクリーンで効果的な製造プロセスに対する要求の継続にも起因している。

RPS（リモートプラズマソース）の最大市場シェアは、アジア太平洋地域が占めている。中国、韓国、台湾、日本などの国々では、エレクトロニクスや半導体の生産が盛んである。これらの国々は世界的に半導体の主要生産国であり、最先端の生産方法としてRPS技術に大きく依存している。さらに、この地域の市場シェアは、ヘルスケアや再生可能エネルギーを含む様々なアプリケーションのために新興国でRPSシステムの使用が増加していることによって強化されている。これらの重要分野への大きな関与と技術投資の拡大により、アジア太平洋地域は現在、世界のRPS市場に最も貢献している。

RPS（リモートプラズマソース）市場はまた、北米で最も速い速度で成長している。同地域の成長には、半導体産業、特に米国とカナダにおける同地域の大きな存在感が寄与している。これらの国々は世界の半導体製造産業に大きく貢献しており、最先端のチップ製造技術をサポートするRPS技術へのニーズが高まっている。さらに、RPSシステムの採用は、北米が研究開発だけでなく、5G技術や電気自動車製造のような最先端産業におけるイノベーションに重点を置いていることによって、さらに促進されている。

市場の主要プレーヤー

リモートプラズマソース市場の主要企業には、T-M Vacuum Products, Inc.、Lam Research Corporation、Sentech Instruments GmbH、Advanced Energy Industries, Inc.、Plasma Etch, Inc.、Muegge GmbH、PIE Scientific LLC.、ADTEC Plasma Technology Co.Ltd.、Rave Scientific、PVA TePla AG、MKS Instruments.、Samco Inc.、Oxford Instruments plc、XEI Scientific, Inc.などがある。

主な動向

2023年8月、世界的な技術プロバイダーであるMKSインスツルメンツ社は、先に発表したアトテック社（ドイツ、ベルリン）の買収完了を発表した。(ドイツ、ベルリン)の買収を完了したと発表した。アトテックは、プリント回路基板、半導体ICパッケージング、表面処理用のプロセスケミカル、装置、ソフトウェア、サービスの世界的リーダーである。

2023年7月、ラムリサーチがセミコンファブのエンジニアをスキルアップするためにCeNSEとMoUを締結ラムリサーチ（Lam Research）は金曜日、ベンガルールにあるインド科学研究所（IISc）のナノ科学工学センター（CeNSE）と覚書（MoU）を締結したと発表した。ラムによると、このMoUは、同社のソリューションであるバーチャルファブリケーションソフトウェア “SEMulator3D “を活用した半導体製造技術をインドの大学で教えるためのカスタマイズコースを共同で開発することを目的としている。

対象機種
– リモートプラズマクリーナー
– リモートプラズマプロセッサー
– 容量結合プラズマ（CCP）
– 誘導結合プラズマ(ICP)
– リモートマイクロウェーブプラズマ
– その他のタイプ

対象アプリケーション
– 半導体製造
– 薄膜蒸着
– 表面処理
– CVD（化学蒸着）
– ALD(原子層蒸着)/LPCVD(低圧化学蒸着)
– エッチング
– その他のアプリケーション

対象エンドユーザー
– 電子・半導体産業
– ヘルスケア産業
– 製造業
– 光学
– 繊維産業
– 化学
– その他エンドユーザー

対象地域
– 北米
米国
カナダ
メキシコ
– ヨーロッパ
o ドイツ
イギリス
o イタリア
o フランス
o スペイン
o その他のヨーロッパ
– アジア太平洋
o 日本
o 中国
o インド
o オーストラリア
o ニュージーランド
o 韓国
o その他のアジア太平洋地域
– 南アメリカ
o アルゼンチン
o ブラジル
o チリ
o その他の南米諸国
– 中東・アフリカ
o サウジアラビア
o アラブ首長国連邦
o カタール
o 南アフリカ
o その他の中東・アフリカ

【目次】

1 エグゼクティブ・サマリー

2 序文
2.1 概要
2.2 ステークホルダー
2.3 調査範囲
2.4 調査方法
2.4.1 データマイニング
2.4.2 データ分析
2.4.3 データの検証
2.4.4 リサーチアプローチ
2.5 リサーチソース
2.5.1 一次調査ソース
2.5.2 セカンダリーリサーチソース
2.5.3 前提条件

3 市場動向分析
3.1 はじめに
3.2 推進要因
3.3 抑制要因
3.4 機会
3.5 脅威
3.6 アプリケーション分析
3.7 エンドユーザー分析
3.8 新興市場
3.9 コビッド19の影響

4 ポーターズファイブフォース分析
4.1 供給者の交渉力
4.2 買い手の交渉力
4.3 代替品の脅威
4.4 新規参入の脅威
4.5 競争上のライバル関係

5 遠隔プラズマ源の世界市場、タイプ別
5.1 はじめに
5.2 遠隔プラズマクリーナー
5.3 遠隔プラズマプロセッサー
5.4 容量結合プラズマ（CCP）
5.5 誘導結合プラズマ（ICP）
5.6 遠隔マイクロ波プラズマ
5.7 その他のタイプ

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資料コード： SMRC23793